國家知識産權局2011年度專利審查質量滿意度調查結果顯示，2011年度社會公眾對專利審查質量的滿意指數為81.5，與2010年的81.1相比有所上升，繼續處於公眾滿意區間。

    據了解，此次調查問卷的內容包括對專利審查全流程各階段的滿意度以及對發明實質審查結案質量的滿意度等。調查問卷經過了專家評審和審核認可，調查對象為隨機抽樣産生，包括國內外專利申請人和國內專利代理機構，有效樣本量較2010年增加50%。調查結果由國際通用的滿意度模型計算得出，歷年調查結果可進行相互比較。

    調查結果顯示，絕大多數受訪者對審查階段的審查質量表示滿意，認為2011年審查質量較2010年有所提升。另外，發明實質審查和事務處理被受訪者認為是對審查質量整體滿意度影響最大的兩個審查階段，其中事務處理各項指標滿意度自2008年以來首次都在80以上，受訪者對發明實審階段表示基本滿意，對發明授權和駁回的滿意度分別為77.9和75.1。

    此外，國家知識産權局還對包括華為公司、清華大學、美國通用汽車、日本索尼公司在內的22家國內外重點申請人進行了一對一的深入訪談調查。受訪的重點申請人普遍認為，近年來國家知識産權局審查流程通暢，審查週期縮短，審查質量快速提升，對整體審查質量滿意。調查結果還顯示，國內外申請人對專利審查中的公知常識舉證、一通後駁回比例上升以及權利要求的支持等方面提出了意見和建議。

    據了解，針對2011年度部分公眾意見的質量改進措施，已經納入國家知識産權局2012年專利審查工作計劃。（記者 賀延芳 通訊員 呂佔江）