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我國成功研製出3英寸碳化硅單晶
中央政府門戶網站 www.gov.cn   2007年05月02日   來源:科技日報

    晶體材料國家重點實驗室宣佈,我國在研製2英寸碳化硅單晶獲得成功以來,在大直徑碳化硅單晶研究方面取得了又一突破性進展。

    這是晶體材料國家重點實驗室出爐的一塊月餅樣大小,硬度僅次於金剛石的灰色的3英寸碳化硅單晶

    我國在“十五”期間獲得2英寸碳化硅單晶,但更大直徑的生長技術進展緩慢。在國家“863”計劃支持下,山東大學晶體材料國家重點實驗室依靠2英寸碳化硅單晶小批量産業化基礎,首先利用理論計算,對大直徑單晶的溫場進行模擬,不斷試驗優化設計,最終在2000℃高溫和真空的環境下,成功生長出3英寸碳化硅單晶。

    自然界的晶體以絢爛的色彩贏得人們的喜愛,不僅如此,還具有奇異的物理性能:能夠實現光、電、磁、熱、聲和力的相互作用和轉換,是電子器件、半導體器件、固體激光器件的重要材料。據了解,從19世紀末開始,人們用各種方法來探索如何生長晶體,碳化硅單晶就是人工晶體科學中熠熠生輝的一顆明珠。它被稱為第三代半導體材料,目前美國的碳化硅單晶直徑達到4英寸,處於國際領先地位。(記者 孫明河)