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我國開始實施大型高精度衍射光柵刻劃機研製項目
中央政府門戶網站 www.gov.cn   2009年12月03日   來源:新華社

    新華社長春12月3日電(記者 宗巍)記者2日從中國科學院長春光機所了解到,我國高精度衍射光柵刻劃機項目已經開始實施,預計2012年研製成功。

    據國家光柵製造與應用工程技術研究中心常務副主任唐玉國博士介紹,新型光柵刻劃機性能優越,最大刻劃面積達400毫米×500毫米,最大刻線密度為6000線/毫米,均是國際一流水平。該精密機械系統還將包括採用完全符合“阿貝原則”的多層臺結構、承重兼導向的一體式石英刀架導軌、金剛石刀具的中途連續切換技術以及實現連續運行與間歇刻劃相結合的獨特工作方式等多個創新點。

    説起被稱為“精密機械之王”的光柵刻劃機,很多人覺得陌生,認為離自己的生活很遠。其實大到空間探測,小到血糖化驗,都少不了光柵發揮作用,而光柵刻劃機就是製造光柵的工作母機。

    唐玉國表示,光柵是光譜儀器的核心元件,只有擁有了新的光柵技術,才能催生新的光譜儀器,推動整個光譜儀器行業的創新和發展。研製大型高精度衍射光柵刻劃機將大幅度提升我國光柵製造水平,促進光譜儀器産業及光譜測試技術的快速發展,提升我國精密機械製造行業的自主創新能力。

    據了解,該項目將在我國長期技術積累、關鍵技術獲得突破的基礎上,依託中科院長春光機所及聯合國內相關技術力量進行研製。目前已經獲得國家重大科研裝備研製項目支持,經費達1.18億元。此外,該項目已被吉林省納入十個重大科技攻關項目之列。

 
 
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